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芯片级零距离相变散热

芯片直接液冷

将散热做进芯片本身。以硅片为流体腔下壳体,在芯片表面直接加工微纳强化沸腾结构,通过异质材料键合、光刻、刻蚀技术与流体腔上壳体封装为一体,实现冷却液与芯片的零距离接触。

>300 W/cm²

热流密度

<0.03 °C/W

系统总热阻

2 mL/s

工质流量

键合 光刻 刻蚀

封装工艺

芯片直接液冷 - 1
芯片直接液冷 - 2

冷板液冷的终极形态——散热不再是芯片的外挂配件,而是芯片封装的一部分。

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产品概述

芯片直接液冷以硅片为流体腔下壳体,在芯片表面直接加工微纳强化沸腾结构,通过异质材料键合、光刻、刻蚀技术与流体腔上壳体封装为一体,实现冷却液与芯片的零距离接触。液体工质流入后在微纳结构表面高效沸腾相变,以极低流量带走高密度热量。

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技术原理

基于微纳强化沸腾结构,液体工质在芯片表面直接发生相变换热。相比传统冷板方案,消除了 TIM(导热界面材料)热阻与冷板基板热阻,系统总热阻可低至 0.03 °C/W 以下,散热效率实现数量级提升。

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典型应用场景

面向下一代 AI 算力芯片、高功率密度 ASIC、3D 堆叠封装等极端热管理需求场景,为芯片设计提供从封装层面解决散热瓶颈的全新路径。

核心优势

冷却液与芯片零距离接触,消除 TIM 热阻
微纳强化沸腾结构,极低流量高效散热
异质材料键合、光刻、刻蚀封装,散热即芯片封装的一部分
系统总热阻 <0.03 °C/W,突破传统冷板极限

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